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Titlebook: Silizium-Halbleitertechnologie; Ulrich Hilleringmann Book 19992nd edition Springer Fachmedien Wiesbaden 1999 Bauelement.Elektronik.Elektro

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樓主: NK871
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發(fā)表于 2025-3-28 16:05:26 | 只看該作者
Scheibenreinigung,inigung zu einer Ver?nderung der Struktur der Scheibenoberfl?che bzw. der Dotierungs- und Ladungsverh?ltnisse im Kristall führt. Diese wirken sich negativ auf die Ausbeute an funktionsf?higen Elementen sowie die Zuverl?ssigkeit und Langzeitstabilit?t der Schaltungen aus.
42#
發(fā)表于 2025-3-28 22:12:09 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-29 00:50:16 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-29 05:17:41 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-29 08:02:14 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-29 15:25:13 | 只看該作者
wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgr??en bis zu wenigen 100 nm gleichm??ig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, ?tzschritte und Implantationen zur Her
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發(fā)表于 2025-3-29 19:25:53 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-29 23:28:23 | 只看該作者
Lithografie, speziellen ?tzverfahren in die darunter liegenden Schichten übertragen. In einigen F?llen, z. B. bei der Zonenimplantation, dient der Fotolack selbst als lokale Maskierung; eine Maskenübertragung durch ?tzen ist hier nicht erforderlich.
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發(fā)表于 2025-3-30 00:48:57 | 只看該作者
,?tztechnik, lithografisch erzeugten Lackmusters in die darunter liegende Schicht. Für diese Aufgabe bieten sich einerseits nasschemische ?tzl?sungen an, zum anderen eignen sich speziell entwickelte Trocken?tzverfahren zur geforderten pr?zisen Strukturübertragung vom Lack in das Material.
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發(fā)表于 2025-3-30 04:57:00 | 只看該作者
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