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Titlebook: Silizium-Halbleitertechnologie; Grundlagen mikroelek Ulrich Hilleringmann Textbook 20197th edition Springer Fachmedien Wiesbaden GmbH, ein

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樓主: 自由
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發(fā)表于 2025-3-26 21:50:28 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-27 04:07:33 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-27 07:59:16 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-27 09:42:45 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-27 15:24:49 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-27 21:07:54 | 只看該作者
,Erweiterungen zur H?chstintegration,d LDD-Strukturen zur Reduktion von Kurzkanaleffekten. Die Schaltungsintegration in SOI-Technik einschlie?lich der Substratherstellung wird vorgestellt. Nanometer-Transistoren und FINFET-Strukturen runden das Kapitel ab.
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發(fā)表于 2025-3-28 01:24:42 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-28 06:07:17 | 只看該作者
Textbook 20197th edition-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgr??en bis zu wenigen Nanometern gleichm??ig und reproduzier
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發(fā)表于 2025-3-28 06:17:45 | 只看該作者
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發(fā)表于 2025-3-28 13:37:07 | 只看該作者
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