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Titlebook: Oberfl?chentechnologie mit Niederdruckplasmen; Beschichten und Stru Gerhard Franz Book 19942nd edition Springer-Verlag Berlin Heidelberg 19

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樓主
發(fā)表于 2025-3-21 19:25:52 | 只看該作者 |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
書目名稱Oberfl?chentechnologie mit Niederdruckplasmen
副標(biāo)題Beschichten und Stru
編輯Gerhard Franz
視頻videohttp://file.papertrans.cn/701/700097/700097.mp4
圖書封面Titlebook: Oberfl?chentechnologie mit Niederdruckplasmen; Beschichten und Stru Gerhard Franz Book 19942nd edition Springer-Verlag Berlin Heidelberg 19
出版日期Book 19942nd edition
關(guān)鍵詞Entwicklung; Halbleiter; Mikroelektronik; Mikrometer; Mikrotechnologie; Plasmaphysik; Plasmaprozess; Plasma
版次2
doihttps://doi.org/10.1007/978-3-662-08979-8
isbn_ebook978-3-662-08979-8
copyrightSpringer-Verlag Berlin Heidelberg 1994
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書目名稱Oberfl?chentechnologie mit Niederdruckplasmen影響因子(影響力)




書目名稱Oberfl?chentechnologie mit Niederdruckplasmen影響因子(影響力)學(xué)科排名




書目名稱Oberfl?chentechnologie mit Niederdruckplasmen網(wǎng)絡(luò)公開度




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書目名稱Oberfl?chentechnologie mit Niederdruckplasmen讀者反饋




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沙發(fā)
發(fā)表于 2025-3-21 22:11:09 | 只看該作者
Gleichstrom-Glimmentladung,ebr?uchlich), das dadurch entsteht, da? durch unelastischen Elektronensto? angeregte Atome relaxieren. Die oben erw?hnten verschieden hell glühenden Bereiche (Abb. 2.1) deuten also an, da? diese Relaxationsprozesse nicht überall mit der gleichen Intensit?t ablaufen. Dunkle Bereiche sind in der N?he
板凳
發(fā)表于 2025-3-22 03:08:21 | 只看該作者
地板
發(fā)表于 2025-3-22 04:56:47 | 只看該作者
5#
發(fā)表于 2025-3-22 09:32:50 | 只看該作者
6#
發(fā)表于 2025-3-22 15:05:32 | 只看該作者
7#
發(fā)表于 2025-3-22 19:30:11 | 只看該作者
8#
發(fā)表于 2025-3-22 21:14:18 | 只看該作者
9#
發(fā)表于 2025-3-23 04:05:18 | 只看該作者
10#
發(fā)表于 2025-3-23 08:30:32 | 只看該作者
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